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測試與失效分析

Testing and Failure Analysis

俄歇電子能譜儀(AES)

設備型號:PHI-710
針對各類儲能業(yè)務需求,TIES力圖發(fā)展成為布局全面,面向市場,集測試分析、失效分析、資質(zhì)認證、技術(shù)開發(fā)、工程放大、智能制造、高價值信息服務、高端培訓為一體的研發(fā)型企業(yè)。 聯(lián)系我們

技術(shù)參數(shù)

1.采用1-25 kV穩(wěn)定的肖特基場發(fā)射源;

2.二次電子成像可達4096×4096像素的分辨率;

3.空間分辨率:8 nm;

4.采集深度:5-75 ?;

5.成分檢出限:0.1atom %;

6.采集信息:元素(Li~U)部分化學態(tài);


應用范圍

用于分析固體材料表面納米深度的元素(部分化學態(tài))成分組成,可以對納米級形貌進行觀察和成分表征。既可以分析原材料(粉末顆粒,片材等)均勻表面組成,又可以分析材料或特定產(chǎn)品表面缺陷如污染,腐蝕,摻雜,吸附、雜質(zhì)偏析等,還具備深度剖析功能表征鈍化層,摻雜深度,納米級多層膜層結(jié)構(gòu)等。

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技術(shù)參數(shù)二次電子分辨率:0.8 nm (加速電壓 15 kV) (標準模式,非任何減速模式下)1.1 nm (加速電壓 1 kV)(減速模式)放大倍數(shù):20 到 1000k         加速電壓:20-1000k電位移:±12μm(WD=8mm)光闌:4孔物鏡活動光闌系統(tǒng):內(nèi)置自清潔裝置(孔徑30、50、50、100μm)探測器:低位(Lower)、高位(Upper)二次電子探測器、高位過濾背散射探頭信號選擇:二次電子像、背散射電子像、混合像快速換樣系統(tǒng):100mm直徑大樣品交換倉,換樣時間30秒真空轉(zhuǎn)移系統(tǒng):日立原裝真空轉(zhuǎn)移系統(tǒng)能譜儀:布魯克60mm2能譜應用范圍1、加速電壓減速功能,具有波長較短、像差較小、分辨力高的一系列優(yōu)點,降低樣品損傷的同時,可以獲得低電壓高分辨的圖像。2、SE/BSE信號按比例接收功能,電鏡配有低位(Lower),高位(Upper)二次電子探測器,高位過濾背散射探頭,可以通過改變透鏡內(nèi)變換電極的電壓,讓檢測器捕捉到二次電子及背散射電子,以任意比例(100級)混合,達到最 佳對比度的觀察,抑制荷電、邊緣效應,從而獲得對比度最 佳的SEM像。

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X射線光電子能譜儀(XPS)
技術(shù)參數(shù)1. 能量分辨率:Ag3d5/2峰位FWHM < 0.48eV;C1s譜中O=C-O峰位FWHM < 0.82eV 2. 最小x-ray 束斑:<10.0μm(x軸);<10.0μm (y軸) 3. Ar離子濺射槍最大束流:>5.0μA @5kV4. Ar離子/C60離子濺射槍差分氣壓:< 6.7x10-6 Pa (5x10-8Torr) 5. Ar氣團簇離子槍的最大電流:>40nA @ 20kV 6. Ar氣團簇離子最小束斑:500 μm @ 20 kV7. 樣品臺的冷熱性能:-140°C~800°C  應用范圍無機化合物、合金、聚合物、能源電池、表面缺陷(腐蝕,異物,污染,分布不均等)、表面多層薄膜等

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